テーマ：「ナノスピン構造の作製・評価技術」
日時：2015年8月3日（月）13:00～17:00
場所：名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー3階 ベンチャーホール （http://www.vbl.nagoya-u.ac.jp/access.html）
交通：地下鉄の名古屋大学駅より徒歩2分
趣旨： 企業の若手技術者、研究者、大学院生にむけて各種磁性材料、特に磁性薄膜・磁性ナノ構造の作製及び評価技術に関して、 基礎から最先端まで網羅したセミナーを開催する。更に近年注目されているマルチフェロイック材料（強磁性と強誘電性等の双方を有する材料）に関する作製・評価技術に関する講義も行う。
◆プログラム（敬称略）
（1）13:00～13:10 開会の辞
（2）13:10～13:50 「機能性磁性薄膜とその評価技術」（名大 加藤 剛志）
（3）13:50～14:30 「UVSORにおけるスピン分解角度分解光電子分光」（分子研 田中 清尚）
［休憩]
（4）14:50～15:30 「スピン偏極電子源とその磁性体観察の可能性」（名大 桑原 真人）
（5）15:30～16:10 「マルチフェロイック薄膜のエピタキシャル成長と歪制御」（名大 浅野 秀文）
（6）16:10～16:50 「マルチフェロイックスとその関連物質の構造物性評価」（名工大 浅香 透）
（7）16:50～17:00 閉会の辞
受講対象者：企業などの研究者、学部学生、大学院生など
定員：70名
参加費：一般（会員）2,000円/一般（非会員）5,000円/賛助会員 1,000円(但し東海支部賛助会員は1名まで無料）/学生会員 無料/学生（非会員）500円
参加申し込み方法：
下記の項目を明記の上、電子メールにて申込先までお申し込みください。また、参加費は当日、会場でお支払いください。
(1)氏名、(2)所属、(3)会員区分【一般（会員）、一般（非会員）、賛助会員、学生会員、学生（非会員）】
問合せ及び申込先：
植田 研二（名大）
e-mail:jsapinfo[at]sic.numse.nagoya-u.ac.jp ([at]を@に修正してお使いください)
