テーマ:「ナノスピン構造の作製・評価技術」

日時:2015年8月3日(月)13:00~17:00

場所:名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー3階 ベンチャーホール (http://www.vbl.nagoya-u.ac.jp/access.html)
交通:地下鉄の名古屋大学駅より徒歩2分

趣旨: 企業の若手技術者、研究者、大学院生にむけて各種磁性材料、特に磁性薄膜・磁性ナノ構造の作製及び評価技術に関して、 基礎から最先端まで網羅したセミナーを開催する。更に近年注目されているマルチフェロイック材料(強磁性と強誘電性等の双方を有する材料)に関する作製・評価技術に関する講義も行う。

◆プログラム(敬称略)
(1)13:00~13:10  開会の辞 
(2)13:10~13:50 「機能性磁性薄膜とその評価技術」(名大 加藤 剛志)
(3)13:50~14:30 「UVSORにおけるスピン分解角度分解光電子分光」(分子研 田中 清尚)

[休憩]

(4)14:50~15:30 「スピン偏極電子源とその磁性体観察の可能性」(名大 桑原 真人)
(5)15:30~16:10 「マルチフェロイック薄膜のエピタキシャル成長と歪制御」(名大 浅野 秀文)
(6)16:10~16:50 「マルチフェロイックスとその関連物質の構造物性評価」(名工大 浅香 透)
(7)16:50~17:00  閉会の辞

受講対象者:企業などの研究者、学部学生、大学院生など

定員:70名

参加費:一般(会員)2,000円/一般(非会員)5,000円/賛助会員 1,000円(但し東海支部賛助会員は1名まで無料)/学生会員 無料/学生(非会員)500円

参加申し込み方法:
下記の項目を明記の上、電子メールにて申込先までお申し込みください。また、参加費は当日、会場でお支払いください。
(1)氏名、(2)所属、(3)会員区分【一般(会員)、一般(非会員)、賛助会員、学生会員、学生(非会員)】

問合せ及び申込先:
植田 研二(名大)
e-mail:jsapinfo[at]sic.numse.nagoya-u.ac.jp ([at]を@に修正してお使いください)