テーマ：「薄膜の評価技術」

日時：2003年7月17日（木）9:30～17:40　9月18日（金）9:30～16:50

プログラム：（敬称略）
9月17日
「はじめに」 坂本功（名工大）
「X線回折の基礎：薄膜の構造及び表面評価法」 高田昌樹（名大）
「電子顕微鏡による薄膜の構造解析」 酒井朗（名大）
「走査プローブ顕微鏡による表面分析」 吉村雅満（豊田工大）
「磁性薄膜の作製と評価」 神保睦子（大同工大）
「撥水性薄膜の作製と評価」 高井治（名大）
「SiC半導体の表面／界面分析」 久田祥之（デンソー）

9月18日
「フォトルミネッセンス法と薄膜評価」 藤原康文 （名大）
「SIMSとその応用」 江龍　修（名工大）
「XPS、 UPS及びオージェ電子分光を用いた表面分析」 後藤敬典（名工大）
「超伝導薄膜の作製と評価」 吉田隆（名大）
「誘電体薄膜の作製と評価」 臼杵辰朗（三洋電機）
「まとめ」 川橋憲（トヨタ自動車）